Plasma处理对有机薄膜电致发光器件性能及稳定性的影响

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论文 | 更新时间：2021-03-18

- Plasma处理对有机薄膜电致发光器件性能及稳定性的影响
- EFFECT OF PLASMA TREATMENT ON PERFORMANCES AND STABILITY OF ORGANIC THIN FILM ELECTROLUMINESCENT DEVICE
- 发光学报 1998年19卷第4期页码：367-369
- 作者机构：
  
  1. 复旦大学物理系, 上海 200433
  2. 上海大学嘉定校区材料系上海,201800
  3. 香港城市大学物理及材料系,香港
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  国家自然科学基金重大项目()
- DOI：
  中图分类号：
- 纸质出版日期：1998-11-30，
  
  收稿日期：1998-3-16，
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张志林, 蒋雪茵, 赵伟明, 许少鸿, 李述汤, 孙鑫. Plasma处理对有机薄膜电致发光器件性能及稳定性的影响[J]. 发光学报, 1998,19(4): 367-369

Zhang Zhilin, Jiang Xueyin, Zhao Weiming, Xu Shaohong, Li Shutang, Sun Xin. EFFECT OF PLASMA TREATMENT ON PERFORMANCES AND STABILITY OF ORGANIC THIN FILM ELECTROLUMINESCENT DEVICE[J]. Chinese Journal of Luminescence, 1998,19(4): 367-369
张志林, 蒋雪茵, 赵伟明, 许少鸿, 李述汤, 孙鑫. Plasma处理对有机薄膜电致发光器件性能及稳定性的影响[J]. 发光学报, 1998,19(4): 367-369 DOI：

Zhang Zhilin, Jiang Xueyin, Zhao Weiming, Xu Shaohong, Li Shutang, Sun Xin. EFFECT OF PLASMA TREATMENT ON PERFORMANCES AND STABILITY OF ORGANIC THIN FILM ELECTROLUMINESCENT DEVICE[J]. Chinese Journal of Luminescence, 1998,19(4): 367-369 DOI：

有机薄膜电致发光是双极注入的发光器件

电极及注入界面是影响器件性能的重要因素

采用高功函数透明电极及低功函数金属电极是普遍使用的方法

人们还采用高离化势的有机透明电极

[1]

低离化势的CuPcBufer层

[2]

plasma处理ITO的方法

[3]

来改善器件的性能。

The effects of plasma treatment on work function of ITO as well as the threshold voltage

luminance and efficiency

expecially the stability of the cell have been investiated. The plasma treatment cause the increase of the work function of ITO

resulting in decrease of threshold voltage

increase of the luminance and the efficiency and the improvement of the stability of the devices.

plasma有机薄膜电致发光器件

plasmaorganic thin flimelectroluminescent devics

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