Para abordar o problema da compatibilidade da interface entre pontos quânticos (QDs) e resina fotossensível SU-8, este estudo propõe uma estratégia de modificação superficial em duas etapas, incluindo a troca por ácido mercaptopropiônico (MPA) e a esterificação por abertura de anel de glicidil metacrilato (GMA), conseguindo introduzir ligações duplas polimerizáveis na superfície dos pontos quânticos para obter GMA-MPA-QDs. A caracterização multidimensional (FTIR, XPS, ICP-OES, etc.) confirmou a evolução dos grupos funcionais superficiais do OA para o MPA e, em seguida, para o GMA, bem como a integridade da estrutura central Zn-S. A análise cinética mostrou que, embora a introdução de segmentos macromoleculares tenha causado uma leve perturbação no microambiente superficial, resultando em uma ligeira diminuição no rendimento quântico da fotoluminescência (PLQY), a taxa de retenção ainda foi alta, atingindo 86,8%. Os GMA-MPA-QDs modificados resolveram eficazmente o problema da aglomeração em escala micrométrica dos QDs na resina SU-8, com a mistura composta permanecendo uniforme, transparente e sem sedimentação após 90 dias. Além disso, este sistema composto demonstrou excelente resistência à extinção térmica e é compatível com processos padrão de fotolitografia, conseguindo produzir estruturas padronizadas com bordas nítidas e fluorescência uniforme, estabelecendo a base material e processual para aplicações de fotolitografia de alta precisão de pontos quânticos.

pontos quânticos;modificação superficial;troca de ligantes;glicidil metacrilato;resina fotossensível SU-8