A fotolitografia é uma solução confiável para preparar filmes de conversão de cor pixelados para Micro-LEDs, mas apresenta desafios na compatibilidade entre pontos quânticos e resistências fotolitográficas. Este trabalho desenvolveu uma resina acrílica modificada com cadeias laterais de N-fenilmaleimida (NPMI) para preparar resistências fotolitográficas compatíveis com pontos quânticos. As ligações C–O nos grupos laterais formam ligações de coordenação com os pontos quânticos, passivando defeitos superficiais e melhorando a dispersão dos pontos quânticos. O rendimento quântico de fotoluminescência (PLQY) da solução da resistência fotolitográfica atingiu 76,1 % (vermelho) e 43,4 % (verde). O efeito de passivação permaneceu no filme final de conversão de cor, com PLQYs de 66,4 % para verde e 36,4 % para vermelho, e o tamanho mínimo do padrão pixelado pode alcançar uma matriz retangular de 10 μm × 10 μm. O método de modificação da cadeia lateral da resina neste estudo fornece uma orientação para desenvolver resistências fotolitográficas compatíveis com pontos quânticos, oferecendo uma solução simples e viável para a comercialização em cores completas dos Micro-LEDs.

resistência fotolitográfica de pontos quânticos; conversão de cor; modificação de resina; pixelização