Foi estudada a aplicação da técnica de deposição de camadas atômicas (ALD) no revestimento e modificação superficial da pós de K₂SiF₆∶Mn⁴⁺ (KSFM) para LED de luz branca, bem como seu impacto nas características estruturais, desempenho de luminescência e estabilidade em ambiente úmido e quente. Os resultados mostram que o uso da técnica ALD com trimetilalumínio como precursor e ozônio como agente oxidante pode formar uma camada de revestimento de óxido de alumínio na superfície do KSFM. A análise por difração de raios X e morfologia superficial indicam que o processo ALD não afeta a fase cristalina nem as características morfológicas do pó do fósforo KSFM. A análise do espectro de emissão luminoso mostra que a passivação com óxido de alumínio também potencializa a intensidade de emissão do KSFM, sem alterar o comprimento de onda de emissão. Em comparação ao pó KSFM não revestido, a camada de revestimento melhora significativamente a estabilidade do pó KSFM em condições de umidade e calor; a intensidade relativa de emissão da amostra revestida por ALD mantém 84% do valor inicial após 24 horas de envelhecimento sob 85% de umidade e 85 ℃.

K₂SiF₆∶Mn⁴⁺; fósforo vermelho; modificação superficial; deposição de camadas atômicas; estabilidade úmido-térmica