근적외선 원형 편광 발광(NIR-CPL) 재료는 깊은 조직 침투와 높은 정보 용량이라는 이중 장점을 갖고 있어 광학 위조 방지, 정보 암호화, 생체 영상 및 광학 장치 등 분야에서 광범위한 응용 가능성을 보여줍니다. 그러나 기존 재료는 발광 비대칭 인자(g_lum)가 낮고 조절이 어려워 실제 응용에 제약이 있습니다. 이러한 도전에 대응하여 본 논문은 콜레스테릭 액정 탄성체(CLC 에스티, CLCEs)를 기반으로 한 NIR-CPL 시스템을 구축하였습니다. 근적외선 발광 분자를 키랄 액정 탄성체 네트워크에 도입하고, CLCEs의 주기적인 나선 구조를 이용해 광자 밴드갭(PBG)을 형성함으로써 PBG 위치의 연속적인 조절을 구현하였습니다. 연구 결과 PBG가 근적외선 발광 분자의 방출 피크와 정확히 중첩될 때 NIR-CPL이 크게 향상되며, 최대 비대칭 인자(g_lum)가 0.3에 달함을 확인하였습니다. 본 연구는 고성능 NIR-CPL 재료 구축을 위한 간단하고 효과적인 전략을 제공할 뿐만 아니라 암 검출 및 다중 단계 정보 암호화 응용의 재료 기반을 마련하였습니다.

근적외선 발광;원형 편광 발광;콜레스테릭 액정 탄성체;광자 밴드갭