양자점(QDs)과 SU-8 포토레지스트 간의 계면 상용성 문제를 해결하기 위해 본 연구에서는 머캅토프로피온산(MPA) 교환 및 글리시딜 메타크릴레이트(GMA) 고리 열림 에스테르화의 2단계 표면 개질 전략을 제안하였으며, 이를 통해 양자점 표면에 중합 가능한 이중 결합을 성공적으로 도입하여 GMA-MPA-QDs를 얻었다. FTIR, XPS, ICP-OES 등의 다차원 특성 분석을 통해 표면 작용기가 OA에서 MPA, 최종적으로 GMA로 변환되었으며 Zn-S 핵심 골격의 완전성이 확인되었다. 동역학 분석 결과 고분자 사슬 도입에 따른 표면 미환경 교란으로 인해 PLQY가 약간 감소하였지만, 보존율은 86.8%에 달했다. 개질된 GMA-MPA-QDs는 SU-8 포토레지스트 내에서 양자점의 미터급 응집 문제를 효과적으로 해결하였으며, 복합 레진은 90일간 안정적으로 균일하고 투명하며 침전물이 없었다. 또한, 본 복합 시스템은 우수한 열 소광 저항성을 보이며 표준 포토리소그래피 공정과 호환되어 선명한 가장자리와 균일한 형광을 가진 패터닝 구조체를 성공적으로 제작했으며, 이는 양자점의 고정밀 포토리소그래피 응용을 위한 재료 및 공정 기초를 마련하였다.

양자점;표면 개질;리간드 교환;글리시딜 메타크릴레이트;SU-8 포토레지스트