준이차원 페로브스카이트는 우수한 광전 특성, 높은 발광 효율 및 용액 가공 특성으로 인해 차세대 고해상도 디스플레이 분야의 이상적인 소재로 부상하고 있습니다. 그러나 고해상도 디스플레이 응용에서 기존 패터닝 기술은 고해상도, 높은 충실도 및 페로브스카이트 박막 품질을 동시에 만족시키기 어렵습니다: 인쇄 기술은 해상도가 제한적이고 '커피링' 현상이 발생하기 쉽고; 포토리소그래피는 빛 손상 위험과 복잡한 공정을 가지며; 레이저 직접 쓰기는 비용이 많이 들고 재료 이용률이 낮습니다. 이를 위해 우리는 열 나노임프린팅과 소수성/친수성 템플릿 유도 결정화를 기반으로 한 고해상도 패터닝 전략을 제안합니다. 플라즈마 표면 개질을 통해 습윤성이 대비되는 벌집 모양의 폴리메틸메타크릴레이트(PMMA) 박막을 형성하고, 계면 에너지 구배를 이용해 미리 설정된 친수성 영역에서 페로브스카이트 전구체 용액의 선택적 국한 성장을 구동하여 경계가 뚜렷하고 균일하며 치밀한 페로브스카이트 미세 배열을 실현했습니다. 이를 통해 제작된 고해상도 페로브스카이트 발광 다이오드(PeLED)는 527 nm에서 발광 피크를 가지며, 최대 외부 양자 효율(EQE)은 7.24%, 최대 밝기는 9474 cd/m²에 달합니다. 본 연구는 고성능 페로브스카이트 마이크로 디스플레이 장치 제작을 위한 고해상도, 공정 간편성 및 우수한 박막 품질을 모두 갖춘 패터닝 솔루션을 제공합니다.

페로브스카이트; 현장 성장; 고해상도; 패터닝; 결정 조절