1,150 nm 레이저 자극된 Ho<sup>3+</sup> 이온 도핑 플루오르 지르코늄 기반 유리의 중적외선방출 특성

ZHAO Haiyan; LU Zhizhong; TIAN Ke; JIA Shijie; WANG Shunbin; WANG Xin; WANG Pengfei

doi:10.37188/CJL.20250118

1,150 nm 레이저 자극된 Ho³⁺ 이온 도핑 플루오르 지르코늄 기반 유리의 중적외선방출 특성

DOI：10.37188/CJL.20250118

摘要

전통적인 고온 용융법을 이용하여 다양한 농도의 Ho³⁺ 이온 도핑된 플루오르 지르코늄 기반 유리(ZBYA)를 제조하였다. Ho³⁺ 이온 흡수 스펙트럼을 기반으로 1,150 nm 레이저로 유리 시료를 자극하여 ZBYA 유리의 2.0 μm, 2.9 μm 및 3.9 μm 중적외선 형광방출 특성 및 Ho³⁺ 이온의 ⁵I₆ 및 ⁵I_{7> 레벨의 수명데이터를 측정하였다. Fuchtbauer-Ladenburg (FL) 이론 계산을 통해 Ho³⁺ : ⁵I₅→⁵I₆ 전이의 최대 방출 단면이 0.55×10^-²¹ cm²임을 확인하고, 1,150 nm 레이저 자극 하에서 Ho³⁺ 이온 도핑된 ZBYA 유리의 중적외선방출 메커니즘을 깊이 탐구하였다. 본 연구 결과는 3.9 μm 파장에서 효과적인 방출을 달성하기 위해 적합한 희토류 이온 도핑 기반 유리와 펌핑 광원을 선정하는 데 이론적 근거와 실험적 참고를 제공한다.}

关键词

Ho³⁺ 이온; 플루오르 지르코늄 기반 유리; 중적외선; 3.9 μm 방출

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1,150 nm 레이저 자극된 Ho³⁺ 이온 도핑 플루오르 지르코늄 기반 유리의 중적외선방출 특성

ZHAO Haiyan ,

LU Zhizhong ,

TIAN Ke ,

JIA Shijie ,

WANG Shunbin ,

WANG Xin ,

WANG Pengfei ,

DOI：10.37188/CJL.20250118

摘要

关键词

1,150 nm 레이저 자극된 Ho3+ 이온 도핑 플루오르 지르코늄 기반 유리의 중적외선방출 특성

ZHAO Haiyan ,

LU Zhizhong ,

TIAN Ke ,

JIA Shijie ,

WANG Shunbin ,

WANG Xin ,

WANG Pengfei ,

DOI：10.37188/CJL.20250118

摘要

关键词

1,150 nm 레이저 자극된 Ho³⁺ 이온 도핑 플루오르 지르코늄 기반 유리의 중적외선방출 특성