비페닐 쉬프 염기 화합물의 집합 유도 발광 특성과 잠복 지문 영상

JIANG Qingyi ,  

CHEN Chunlin ,  

LI Shan ,  

CHEN Yinghe ,  

DONG Guanchen ,  

ZHANG Bangcui ,  

GAO Shulin ,  

WANG Jianfei ,  

YANG Yanhua ,  

摘要

비페닐 쉬프 염기 화합물의 광학적 특성과 실제 응용을 탐구하기 위해, 4,4'-디브롬비페닐-2,2'-디아민을 분자 골격으로 하여 각각 4,4' 위치에서 π 공액계를 연장하고 2,2' 위치에서 곁사슬을 도입한 두 가지 쉬프 염기 화합물 3,3″-(4,4″-디(디페닐아민)-[1,1'∶4',1″∶4″,1″-테트라페닐비페닐]-2″,3'-다이일)디(아젠일)디(메틸렌)디([1,1'-비페닐]-4-올)(LFP-1)과 3,3″-([1,1'∶4',1″∶4″,1″-테트라페닐비페닐]-2″,3'-다이일)디(아젠일)디(메틸렌)디([1,1'-비페닐]-4-올)(LFP-2)를 설계하고 합성하였다. 광학 특성 시험 결과, 두 화합물 모두 디메틸설폭사이드와 물 혼합 용매에서 여기 상태 내분자 내 프로톤 전이 및 집합 유도 발광 특성을 나타내었다. 또한, 두 화합물은 칼날, 은박지 및 스테인리스 강 등 세 가지 소재에서 잠복 지문 영상을 구현할 수 있으며, 지문의 1급, 2급, 3급 특징 세부 사항을 명확하게 인식할 수 있어 잠복 지문 시각화 재료 설계의 기초를 마련한다.

关键词

비페닐 쉬프 염기;집합 유도 발광;잠복 지문 영상

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