피코초 레이저는 높은 펄스 에너지, 높은 출력 밀도 및 낮은 열 영향을 특징으로 하며, 미세 가공, 정밀 절단 등 분야에서 우수한 성능을 보이며 레이저 가공, 항공 우주, 생물 의학 등 다양한 분야에 널리 응용되고 있다. 패시브 Q 스위칭 기술은 공진기 Q 값을 조절하여 펄스 레이저 출력을 실현하며, 피코초 레이저 생성의 중요한 방법 중 하나가 되었다. 본 논문은 피코초 펄스 획득 시 패시브 Q 스위칭 기술의 적용을 개관하고, 마이크로 칩 구조, 반도체 포화 흡수 거울(SESAM), 본딩 크리스탈의 세 가지 기술 수단을 이용하여 공동 길이를 단축하여 피코초 펄스를 얻는 방법과 피코초 펄스 획득 시 다른 성능 향상을 중심으로 소개한다. 또한 최근 1064 nm 패시브 Q 기술이 피코초 펄스 레이저 분야에서 이룬 중요한 진전을 요약하고, 패시브 Q 피코초 레이저의 발전 및 응용 전망을 제시한다.

피코초 레이저; 패시브 Q 스위칭 기술; 마이크로 칩 레이저; 반도체 포화 흡수 거울(SESAM); 본딩 크리스탈