다양한 출력의 O2 또는 N2 플라즈마 처리가 TiNx 애노드 표면의 실리콘 기반 OLED 발광 특성에 미치는 영향

LI Xiang ,  

LIU Hai ,  

WEI Bin ,  

ZHANG Jian-hua ,  

摘要

실리콘 기반 유기 발광 다이오드는 마이크로 디스플레이 분야에서 중요한 연구 방향입니다. 본 논문은 실리콘 기반 마이크로 디스플레이 장치의 애노드와 유기층 주요 계면 재료인 티타늄 질화물을 연구 대상으로 하여, 다양한 조건의 플라즈마 처리가 표면 미세구조 형태, 일함수, 전하 운반자 농도, 전하 운반자 이동도, 반사율 및 X선 광전자 분광 변화에 미치는 영향을 연구함으로써 유기 발광 성능을 향상시키는 표면 처리 방법을 탐구합니다. 결과에 따르면 적절한 출력의 플라즈마 처리(O2: 60 W 또는 N2: 80 W)가 실리콘 기반 디스플레이 장치의 발광 밝기(O2: 70%, N2: 128%)를 크게 향상시킬 수 있음을 보여줍니다. 동시에 전류 효율과 전력 효율도 각각 35%와 58% 향상되었습니다. 여러 매개변수를 비교한 결과, 플라즈마 처리가 Ti 및 N 원소의 원자가 상태를 변화시켜 계면의 전하 운반자 농도와 이동도를 증가시켜 발광 성능을 최적화할 수 있다고 생각됩니다. 본 연구는 새로운 실리콘 기반 디스플레이 장치 성능 향상 방법을 상세히 다루고 관련 연구에 방향을 제시합니다.

关键词

플라즈마 처리; 실리콘 기반 OLED; 티타늄 질화물; 전하 운반자 농도 및 이동도

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