近赤外線（NIR）吸収キラル分子材料は、キラル光学活性と近赤外励起特性を併せ持ち、円偏光検出、生体イメージング、光診療およびバイオセンサーなどの先端分野で広範な応用展望を示している。特に、近赤外吸収キラルフルオロボロン錯体は、高いモル吸光係数、優れた光安定性、励起状態の制御の容易さといったフルオロボロン骨格の卓越した光物理特性とキラル特徴を融合し、現在のキラル材料研究のホットスポットとなっている。本稿では、分子設計戦略と構造―機能相関に基づき、近赤外吸収キラルフルオロボロン錯体の主要な構築戦略を総説する。これには、キラル基の誘導、非対称触媒によるホウ素キラリティー構築、ヘリコイド骨格の構築および超分子キラル集合体の４つの主要ルートが含まれ、特に構造修飾がキラル光学特性に及ぼす影響とメカニズムを重点的に解析する。これを踏まえ、近赤外応答の深度拡大、キラル光学因子の向上、実用化転換における現在の研究が直面する主要な課題をまとめ、新規高性能近赤外吸収キラル光学材料の設計と応用の参考とすることを目的とする。

近赤外吸収;キラル;フルオロボロン錯体;BODIPY;円偏光発光