熱注入法によるNiOxナノ結晶の合成と赤色QLEDホール注入層への応用

Wu Zhijun ,  

Tang Ting ,  

Li Ruifeng ,  

Han Changfeng ,  

Xiang Chaoyu ,  

Zhang Ting ,  

摘要

NiOxは量子ドット発光ダイオード（QLED）における注目される無機ホール注入層（HIL）材料であるが、従来の合成方法はコスト高や製造プロセスの複雑さといった課題に直面している。本研究では、熱注入法により単分散で高結晶性のNiOxナノ結晶（平均粒径約5.5 nm）を合成した。この方法は、溶液法の低コストかつ高温アニール不要という利点を兼ね備えている。さらに、NiOx HILとホール輸送層の界面に(2-(9H-カルバゾール-9-イル)エチル)リン酸2PACz分子層を導入し、溶媒の侵食を効果的に抑制し表面の水酸基欠陥濃度を6.3％低減した。この複合HILに基づく赤色QLEDは、点灯電圧が6.1 Vから5.8 Vに低下し、外部量子効率が5.24％から7.34％に向上、寿命も73％延長された。本研究は全無機QLED向けの簡便かつ低コストなNiOx基HIL合成手法を提案する。

关键词

量子ドット発光ダイオード;熱注入法;酸化ニッケル;無機ホール注入層

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