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940 nm垂直共振器面発光レーザー性能に対する共振周期ゲインアクティブ領域Al
Ga<1-x>As隔離層の影響
WU Bin
,
DONG Hailiang
,
JIA Zhigang
,
JIA Wei
,
MA Shufang
,
SHANG Lin
,
XU Bingshe
,
DOI:
10.37188/CJL.20250151
摘要
PICS 3Dシミュレーションソフトウェアを用いて、異なるAl組成のAl
Ga<1-x>As隔離層を含む共振周期ゲイン(Resonant periodic gain、RPG)アクティブ領域を設計し、940 nm垂直共振器面発光レーザー(Vertical cavity surface emitting laser、VCSEL)の光電特性を調査して、高出力および高出力変換効率の実現を目指した。シミュレーション結果は、隔離層のAl組成が0.1の場合、RPG VCSELのピーク出力が24.32 mW、ピーク出力変換効率が51.7%に達することを示した。隔離層のバンド構造を解析し、RPG VCSELアクティブ領域におけるキャリアの輸送特性を研究した。結果は、Al組成を調整することでバンド構造を制御し、放射再結合確率を制御できることを示した。これにより、隔離層内の電子と正孔の蓄積が効果的に減少し、非放射再結合が減少した。本研究は、ひずみ補償量子井戸RPGアクティブ領域の隔離層材料選択に理論的指針とデータサポートを提供する。
关键词
垂直共振器面発光レーザー;高出力;共振周期ゲインアクティブ領域;Al
Ga<1-x>As隔離層
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