（Gd，Lu）₂O₃∶Eu蛍光セラミックスは、高エネルギーX線イメージング技術への応用に広い展望を持つ。共沈法で合成された前駆体は1050 ℃で4時間焼成後、純相のEu_0.1Gd_0.6Lu_1.3O₃ナノ粉末が得られた。合成したナノ粉末を原料とし、異なる温度で真空予備焼成（2時間保持）と熱等方性アイソスタティックプレス（1750 ℃×3時間、Ar雰囲気）を組み合わせてEu_0.1Gd_0.6Lu_1.3O₃セラミックスを作製した。予備焼成温度がEu_0.1Gd_0.6Lu_1.3O₃セラミックスの微細構造、光学および発光特性に与える影響を研究した。1625 ℃で2時間予備焼成し、HIP処理を行ったEu_0.1Gd_0.6Lu_1.3O₃セラミックスは最高の直線透過率（75.2％ @ 611 nm）を示した。Eu³⁺の⁵D₀→⁷F₂エネルギーレベル遷移により、HIP処理後のEu_0.1Gd_0.6Lu_1.3O₃セラミックスのPLおよびXELスペクトルは611 nmで最も強い赤色発光ピークを持ち、その強度は予備焼成温度の上昇に伴い一度増加した後減少する傾向を示した。Eu_0.1Gd_0.6Lu_1.3O₃セラミックスの熱ルミネッセンス（TSL）曲線は178 Kで強いピークを示し、253 Kおよび320 Kで2つの弱いピークを示した。320 Kのピークは酸素空孔に関連している可能性がある。178 Kでの発光はEu³⁺イオンの価数変化による欠陥に関連している。

（Gd，Lu）₂O₃∶Eu; 透明セラミックス; 微細構造; 光学特性; 熱等方性アイソスタティックプレス