二重シェル被覆Mn∶CsPbCl₃ナノ結晶の作製および潜在指紋認識応用

ZHANG Lifu ,  

CHEN Gang ,  

YAN Ao ,  

ZHANG Rui ,  

LYU Zehua ,  

JIANG Zhaoyi ,  

ZHANG Yufei ,  

MENG Shuai ,  

LI Kun ,  

QIN Zhenxing ,  

SONG Kai ,  

摘要

完全無機ハライド鉛セシウムペロブスカイトナノ結晶CsPbX₃(X=Cl、Br、I)は、その独特な光電特性により、近年、固体照明・ディスプレイ、太陽電池、抵抗変化メモリなどの分野で研究の注目対象となっている。Mn²⁺はPb²⁺より半径の小さい遷移金属イオンであり、Mn²⁺をドープしたCsPbCl₃ペロブスカイトナノ結晶を用いることで、約600 nm付近の可視光領域にオレンジ色の発光を実現し、ペロブスカイトナノ結晶中のPb²⁺を一部置換して毒性を低減することができる。しかし、Mn²⁺ドープハライドペロブスカイトナノ結晶は、水分子などの環境因子による侵食を受けやすく、蛍光特性が著しく劣化する問題がある。本研究では、テトラメトキシシラン(Tetramethoxysilane, TMOS)とポリメチルメタクリレート(Polymethyl methacrylate, PMMA)を用いたMn²⁺ドープCsPbCl₃ペロブスカイトナノ結晶の二重シェル被覆法を採用し、二重シェル被覆法がナノ結晶の安定性向上に与えるメカニズムを解析した。さらに、二重シェル被覆されたMn²⁺ドープCsPbCl₃ナノ結晶のトルエンおよびジクロロメタン(Dichloromethane, DCM)溶媒中での発光特性を比較したところ、オレンジ色蛍光の発光強度は顕著な低下を見せず、蛍光量子収率(Photoluminescence quantum yield, PLQY)は約25%の水準を維持した。本研究に基づき、対応する蛍光ナノ結晶粉末を作製し、潜在指紋認識に応用し、長期にわたり効果的に潜在指紋情報を検出できることを示した。

关键词

Mn²⁺ドープ;ハライドペロブスカイトナノ結晶;二重シェル被覆;蛍光粉末;潜在指紋認識

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