摘要
金属酸化物は優れた熱安定性と水/酸素に対する感度の低さを持つため、量子ドット発光ダイオード（QLED）デバイスにおいて最も重要な電荷移動材料として使用されています。しかし、異なる金属酸化物の電荷移動能力は異なり、異なるデバイス構造における界面エネルギーレベルのマッチング問題などが電荷不均衡を引き起こし、エキシトン消滅を招くこともあります。したがって、材料の安定性を保証しつつ、良好なデバイス性能を得るためには界面修飾と最適化が必要です。本稿では金属酸化物を電荷輸送層、電荷注入層、及び電荷遮断層としてそれぞれ説明し、他の材料の混入や合理的なデバイス構造の構築を通じて、近年のQLED応用における金属酸化物の発展経緯を総合的に概説します。
关键词
金属酸化物; 電荷輸送層; 電荷注入層; 電荷遮断層; 複合界面機能層
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