有機発光デバイス（Organic light emitting diode、OLED）は、軽量、携帯性、自発光、低消費電力、高輝度、柔軟なディスプレイなどの特徴を持ち、表示製品の付加価値を高めることができるため、科学および産業界で広く注目されています。しかし、OLEDデバイス内の有機材料は空気中の水蒸気および酸素に非常に敏感であり、封止保護なしで長期間空気中に保管された場合、OLEDの動作性能および寿命に深刻な影響を与えます。適切な輸送層材料の選択、表面層構造、および界面工学を利用して材料の水および酸素耐性を向上させることに加えて、デバイスの信頼性の高い封止は空気中の水蒸気および酸素の侵入を遮断する効果的な手段です。原子層堆積（Atomic layer deposition、ALD）は実験室で検証された効果的な薄膜堆積封止技術であり、ALDの自己制限反応特性により、低温で厚さを精密かつ均一に制御可能な薄膜を堆積できます。ALDで堆積された薄膜は、優れた機械的柔軟性、非常に高いバリア性能、および光学透過率を持つことが多いです。本稿では原子層堆積技術の原理を概説し、ALDで作製した薄膜の水蒸気透過率を分析し、単層および有機-無機積層薄膜封止のALDの技術的利点を比較します。

薄膜封止;有機発光デバイス;原子層堆積;フレキシブルディスプレイ;水蒸気透過率