摘要
シリコンベースの有機発光ダイオードは、マイクロディスプレイ分野における重要な研究テーマです。本論文では、シリコンベースのマイクロディスプレイデバイスにおける陽極と有機層の重要な界面材料である窒化チタンを対象に、異なる条件でのプラズマ処理による表面の微細構造形態、仕事関数、キャリア濃度、キャリア移動度、反射率、およびX線光電子分光の変化を調査し、有機発光性能の向上を目指した表面処理手法を探求しました。結果は、適切な出力のプラズマ処理（O2: 60WまたはN2: 80W）がシリコンベースのディスプレイデバイスの発光輝度（O2: 70%、N2: 128%）を大幅に向上させることを示しています。また、電流効率と電力効率もそれぞれ35%および58%向上しました。各種パラメータの比較により、プラズマ処理によってTiおよびN元素の価数状態が変化することで界面のキャリア濃度および移動度が向上し、発光性能が最適化されると考えられます。本研究は、シリコンベースのディスプレイデバイスの性能向上に向けた新しい手法を詳細に示し、関連研究に指針を提供します。
关键词
プラズマ処理; シリコンベースOLED; 窒化チタン; キャリア濃度および移動度
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