Les diodes électroluminescentes à points quantiques (QLEDs) présentent une haute pureté des couleurs, une large gamme de couleurs et une compatibilité avec le traitement en solution, et sont considérées comme une direction importante pour les technologies d'affichage à haute résolution de nouvelle génération. Cependant, réaliser un motif haute résolution sans compromettre les performances optiques des points quantiques (QDs) reste un obstacle technique clé pour leur application pratique. Dans cet article, nous proposons un nouveau procédé de motif basé sur l'impression nano et la gravure thermique pour résoudre les difficultés de motif dans la fabrication de QLEDs à haute résolution. Cette méthode utilise un moule en silicium pour imprimer une microstructure en nid d'abeille sur une surface en polyvinyl butyral (PVB), contrôle sélectivement le remplissage des points quantiques par la mouillabilité en solution, et grâce au transfert thermique, permet de fabriquer des réseaux de points quantiques avec une taille de caractéristique jusqu'à 1,5 µm et une résolution de 9072 pixels par pouce (PPI) avec une homogénéité élevée. En utilisant un moule à résolution plus élevée, nous avons également réalisé un réseau de points quantiques avec une densité de pixels allant jusqu'à 25400 PPI. De plus, en fabriquant le réseau de points quantiques sur la couche de transport de trous (HTL), nous avons réussi à obtenir un dispositif QLED rouge haute résolution (9072 PPI) avec un rendement quantique externe maximum (EQE) de 10,91% et une luminance maximale de 164 421 cd/m². Ce travail offre une nouvelle voie de motif stable et répétable pour la fabrication des QLEDs à haute résolution.

Diodes électroluminescentes à points quantiques (QLEDs); haute résolution; impression nano; transfert thermique