Dislocations et gravure humide de Lu2O3

LI Guoxin ,  

WANG Pei ,  

MU Wenxiang ,  

ZHAO Lili ,  

WANG Shanpeng ,  

YIN Yanru ,  

摘要

L'oxyde de lutécium (Lu2O3) est considéré comme un matériau cristallin laser prometteur en raison de sa haute conductivité thermique, de sa faible énergie phononique et de son fort champ cristallin. Cependant, son point de fusion élevé atteignant 2450 ℃ induit des gradients de température importants, ce qui entraîne la formation de nombreux défauts. La recherche sur les défauts de ce cristal est encore insuffisante, ce qui freine l'amélioration de la qualité des cristaux. Dans cette étude, nous avons utilisé la méthode de gravure chimique pour étudier les effets de la gravure sur les cristaux de Lu2O3 dans différentes conditions, et déterminé les conditions optimales pour étudier les défauts de dislocation du cristal Lu2O3 (fraction massique 70% H3PO4, 160 ℃, 15~18 minutes). La morphologie des puits de dislocation sur les plaquettes Lu₂O₃ orientées (111) et (110) a été caractérisée à l'aide d'un microscope optique, d'un microscope électronique à balayage et d'un microscope à force atomique. Cette étude comble une lacune dans la compréhension des défauts linéaires de Lu2O3 et fournit des orientations pour optimiser le processus de croissance cristalline et améliorer la qualité des cristaux.

关键词

Lu2O3;puits de corrosion;dislocations;défauts cristallins

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