La lithographie est une solution fiable pour préparer un film de conversion de couleur de pixels à diodes électroluminescentes microscopiques (Micro-LED), mais il existe un défi de compatibilité des points quantiques avec la résine photosensible de lithographie. Dans ce document, un photorésistant compatible avec les points quantiques a été mis au point en modifiant les chaînes latérales de la résine acrylique avec N-phénylmaléimide (NPMI), et le groupe latéral C-O est capable de former une liaison de coordination avec les points quantiques, supprimant ainsi les défauts de surface et améliorant la dispersion des points quantiques, ce qui a pour effet de porter le rendement quantique de luminescence (RQL) de la résine photosensible à 76,1 % (rouge) et 43,4 % (vert). L'effet de blocage persiste lors de la préparation du film de conversion de couleur, les RQL pour le vert et le rouge étant respectivement de 66,4 % et 36,4 %, et la taille minimale de motif pixélisé peut être réalisée dans un rectangle de 10 µm × 10 µm. La méthode de modification des chaînes latérales de la résine dans cette étude fournit des indications pour élaborer une résine photosensible compatible avec les points quantiques pour la lithographie et propose une solution simple et réalisable pour l'application commerciale de Micro-LED couleur.

résine photosensible pour points quantiques ; conversion de couleur ; modification de résine ; pixels