Revêtement de surface Al2O3 renforçant les performances d'émission et la stabilité humide et thermique du phosphore K2SiF6∶Mn4+

DUAN Lingyue ,  

LU Wanbing ,  

WANG Zhiyu ,  

ZHAO Jinxin ,  

WANG Dawei ,  

LIU Haixu ,  

YU Wei ,  

摘要

Cette étude porte sur l'application de la technique de dépôt en couches atomiques (ALD) sur la poudre de K2SiF6∶Mn4+ (KSFM) utilisée dans les LED blanc, en ce qui concerne le revêtement et la modification de surface des phosphores rouges, ainsi que sur l'impact sur les caractéristiques structurelles, les performances d'émission lumineuse et la stabilité en environnement humide et chaud. Les résultats montrent que l'utilisation de la technique ALD avec du triméthylaluminium comme précurseur et de l'ozone comme oxydant permet de former une couche de revêtement en oxyde d'aluminium sur la surface du KSFM. L'analyse par diffraction des rayons X et morphologie de surface indique que le procédé ALD n'affecte pas la phase cristalline ni les caractéristiques morphologiques du phosphore KSFM. L'analyse des spectres d'émission lumineuse montre que la passivation par l'oxyde d'aluminium améliore l'intensité d'émission du KSFM sans modifier sa longueur d'onde d'émission. Par rapport à la poudre KSFM non revêtue, la couche de revêtement améliore significativement la stabilité du poudres KSFM en environnement humide et chaud, la luminosité relative de l'échantillon revêtu par ALD reste à 84 % de sa valeur initiale après un vieillissement de 24 h sous 85 % d'humidité à 85 ℃.

关键词

K2SiF6∶Mn4+; phosphore rouge; modification de surface; dépôt en couches atomiques; stabilité humide et thermique

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