Dieser Artikel berichtet über eine Serie von AlF₃-basierten Gläsern mit niedrigem Hydroxylgehalt, die hochkonzentriert mit Er³⁺-Ionen dotiert sind (AlF₃-YF₃-CaF₂-BaF₂-SrF₂-MgF₂-ErF₃), und untersucht systematisch deren Emissionseigenschaften im 2,7 μm-Bereich. Durch Optimierung der Glaszusammensetzung und Herstellung mittels Hochtemperaturschmelze wurden eine ultraniedrige Hydroxylkonzentration im Glas (OH^--Absorptionskoeffizient von 0,031 cm^-1) sowie eine hohe Dotierungskonzentration von Er³⁺-Ionen (bis zu 12 mol%) erreicht. Im Vergleich zu bisher berichteten AlF₃-basierten Gläsern weist dieses Glas eine ausgezeichnete thermische Stabilität (Glasübergangstemperatur T_g=433℃, thermischer Stabilitätsparameter ΔT=89℃) und chemische Stabilität auf. Bei Anregung mit 980 nm Laserpumpen wird die Emissionsintensität bei 2,7 μm in dem niedrighydroxylierten, hochdotierten AlF₃-Basisglas signifikant erhöht, mit einem Emissionsquerschnitt von bis zu 5,28×10^-21 cm² und einem hohen Verzweigungsverhältnis (20,69%), was zur Reduzierung der Laserschwelle und Steigerung der Steigungseffizienz beiträgt, während die gemessene Lebensdauer des ⁴I_11/2→⁴I_13/2-Übergangs 7,651 ms beträgt. Diese Eigenschaften deuten auf ein wichtiges Anwendungspotenzial des niedrighydroxylierten, hochkonzentrierten Er³⁺-Dotierten AlF₃-Basisglases in Festkörper- und Faserlasern im 2,7 μm-Bereich hin.

Fluoraluminatglas; Er³⁺-Dotierung; 2,7 μm Emission