Quasi-zweidimensionale Perowskite sind aufgrund ihrer hervorragenden optoelektronischen Eigenschaften, hohen Leuchteffizienz und lösungsverarbeitbaren Eigenschaften ideale Materialien für die nächste Generation hochauflösender Displays. In deren hochauflösenden Display-Anwendungen ist es jedoch schwierig, bei traditionellen Musterungstechniken hohe Auflösung, hohe Treue und Perowskit-Filmqualität zu vereinen. Drucktechnologien sind in der Auflösung limitiert und neigen zum "Kaffeering"-Effekt; Fotolithografie birgt Risiken von Lichtschäden und ist prozesskomplex; direkte Laserstrahlschreibung ist kostspielig und materialineffizient. Daher schlagen wir eine hochauflösende Musterungsstrategie vor, die auf thermischem Nano-Imprinting und kristallinen Wachstumsinduziertem durch hydrophile/hydrophobe Vorlagen basiert. Durch plasmatechnische Oberflächenmodifikation wurde eine bienenwabenförmige Poly(methylmethacrylat) (PMMA)-Schicht mit unterschiedlicher Benetzbarkeit aufgebaut, welche den selektiven, lokal begrenzten Wachstum der Perowskit-Vorläuferlösung in vorgegebenen hydrophilen Bereichen mittels Grenzflächenenergiegradient antreibt, um klare Grenzen und dicht gleichmäßige Perowskit-Mikroarrays zu realisieren. Die so hergestellten Perowskit-Leuchtdioden (PeLED) zeigen eine Emissions-Spitzenwellenlänge bei 527 nm, eine maximale externe Quanteneffizienz (EQE) von 7,24 % und eine maximale Helligkeit von 9474 cd·m⁻². Diese Arbeit bietet eine Musterungslösung für die Herstellung von leistungsstarken Perowskit-Mikrodisplays mit hoher Auflösung, einfachem Prozess und hervorragender Filmqualität.

Perowskit;in-situ Wachstum;hohe Auflösung;Musterung;Kristallisationskontrolle