Quasi-zweidimensionale Perowskite sind aufgrund ihrer ausgezeichneten optoelektronischen Eigenschaften, hohen Leuchtdichteffizienz und Lösungsmittelverarbeitbarkeit ideale Materialien für die nächste Generation hochauflösender Displays. In hochauflösenden Displayanwendungen haben herkömmliche Strukturierungstechniken jedoch Schwierigkeiten, hohe Auflösung, hohe Genauigkeit und Perowskit-Folienqualität zu vereinen: Der Drucktechnologie sind in der Auflösung Grenzen gesetzt und sie neigt zum „Kaffeering“-Effekt; die Fotolithographie birgt Risiken durch Lichtschäden und ist komplex im Prozess; die Laser-Direktschreibung ist kostspielig und die Materialausnutzung gering. Daher schlagen wir eine hochauflösende Strukturierungsstrategie vor, die auf thermischem Nanoimprinting und hydrophilen/hydrophoben Schablonen-induzierter Kristallisation basiert. Durch Plasmabehandlung wird ein wabenförmiger Poly(methylmethacrylat) (PMMA)-Film mit Benetzungsunterschieden erzeugt, wobei ein Grenzflächenenergie-Gradient das selektive, lokal begrenzte Wachstum der Perowskit-Vorläuferlösung in vordefinierten hydrophilen Bereichen steuert, wodurch klar begrenzte, einheitlich dichte Perowskit-Mikroarrays erzielt werden. Die so hergestellten hochauflösenden Perowskit-Leuchtdioden (PeLEDs) zeigen einen Emissionspeak bei 527 nm, eine maximale externe Quanteneffizienz (EQE) von 7,24 % und eine maximale Helligkeit von 9474 cd/m². Diese Arbeit liefert eine Strukturierungslösung, die hohe Auflösung, vereinfachten Prozess und exzellente Folienqualität für die Herstellung leistungsstarker Perowskit-Mikrodisplays kombiniert.

Perowskit; in situ-Wachstum; hohe Auflösung; Strukturierung; Kristallisationskontrolle