Ho3+-dotierter hochstabiler nahinfraroter Mikrosphärenlaser

WANG Xin ,  

SUN Xianze ,  

CHENG Kang ,  

ZHAO Haiyan ,  

TIAN Ke ,  

LU Zhizhong ,  

WANG Shunbin ,  

JIA Shijie ,  

WANG Pengfei ,  

摘要

Es wurde ein mikrometrisches mikrosphärisches Mikroresonator-Nahe-Infrarot-Laser-Emissionsgerät berichtet. In einem Glas mit Phasentrennungsstruktur wurde ein Glas-Mikrosphärenlaser mit Ho3+-Dotierung hergestellt, der hohe Q-Werte und hohe optische Schadensschwellen aufweist, wobei der Mikrosphärendurchmesser nur 42,81 μm beträgt. Nach experimentellen Messungen wurde der Q-Wert des Mikrosphärenlasers auf 1,25×106 berechnet. Mit einem konischen Faserkoppel wurde Pumplicht erfolgreich in die Mikrosphäre eingekoppelt, wodurch die Lumineszenz der Selten-Erd-Ionen angeregt wurde, und mithilfe der Mikrosphäre als Laseroszillator wurde eine 2,04 μm Einmodenlaser-Emission beobachtet. Darüber hinaus verwendeten wir die Glastemperaturübergangstemperatur (Tg) als Maß für die Schadensbeständigkeit des Mikrosphärenlasers und zeigten, dass der Mikrosphärenlaser in komplexen Umgebungen stabil arbeiten kann.

关键词

Ho3+-Ionen; Fluorsilikatglas; nahe Infrarotlaser

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