Das spektrale holographische Lochspeicherverfahren besitzt aufgrund seiner hohen Dichte, Störfestigkeit und geringen Energieverbrauchs ein enormes Potenzial für die Speicherung großer Mengen „kalter Daten“. Dieser Artikel basiert auf den Forschungserfahrungen des Autors und gibt zunächst einen kurzen Überblick über die Entwicklung und bestehende Engpässe des spektralen Lochverfahrens; anschließend werden basierend auf den Grundlagen des plasmonischen spektralen Lochverfahrens neue Ideen für spektrales holographisches Lochspeichern bei Raumtemperatur mit funktionalen Elementen aus Übergangsmetalloxiden/edlen Metallen vorgestellt; danach werden die neuesten Ergebnisse des Autors bei der Entwicklung großflächiger holographischer Scheiben und miniaturisierter holographischer Speicher präsentiert; abschließend wird ein Ausblick auf die zukünftige Nutzung räumlicher Strukturen funktionaler Elemente zur Realisierung hochdichter frequenzbereichsbasierter holographischer Lochspeicherung gegeben. Die Reihe der Arbeiten des Autorenteams eröffnet neue Wege für die hochdichte optische Speicherung und bietet wertvolle Ansätze für die Entwicklung hochintegrierter optoelektronischer Bauelemente auf Basis von Übergangsmetalloxiden.

spektrale Lochspeicherung; Übergangsmetalloxide; Plasmonen; holographische Speicherung