تعتبر بيروفسكايت يوديد الرصاص (FAPbI₃) مادة مرشحة رئيسية في مجال تضخيم الضوء القريب من الأشعة تحت الحمراء وأجهزة الليزر بسبب فجوة نطاقها الضيقة التي تبلغ حوالي 1.47 eV وأدائها البصري الممتاز. ومع ذلك، فإن أغشية FAPbI₃ تتبلور بسرعة أثناء إعدادها باستخدام مذيب N،N-ثنائي ميثيل فورماميد/ثنائي ميثيل سلفوكسيد (DMF/DMSO) التقليدي، مما يؤدي بسهولة إلى زيادة عيوب الأغشية، كما أن بيروفسكايت FAPbI₃ يتحول بسهولة من الطور الأسود (الطور α) الذي يمتلك نشاطًا ضوئيًا كهربائيًا إلى الطور الأصفر (الطور δ) الذي يفتقر إلى النشاط الضوئي الكهربائي، مما يقلل من أداء وثبات أجهزة الليزر ويعيق تطبيقه العملي. لحل هذه المشكلة، تقدم هذه الورقة إدخال قاعدة لويس قوية، ثنائي ميثيل اليوريا (TMU)، في نظام دراسة FAPbI₃ لإنشاء مذيب DMF/TMU بدلًا من المذيب التقليدي. بالمقارنة مع DMSO، فإن التفاعل الأقوى لـ TMU مع المذاب يمكن أن يبطئ بشكل فعال تحول الطور المتوسط إلى الطور البيروفسكايت، مما يؤدي إلى أغشية بيروفسكايت عالية الجودة مع عيوب أقل ويقلل بشكل كبير من تحول الطور α إلى الطور δ. تحت ظروف تحفيز الليزر النانوي، كان عتبة الإشعاع التلقائي المضخم (Amplified spontaneous emission، ASE) الخاص بفيلم FAPbI₃-TMU المُعد 10.93 μJ·cm^-2، أقل بنسبة 38.35٪ من فيلم FAPbI₃-DMSO، وتم تحسين المكاسب البصرية والخسائر بشكل فعال، وتم تحقيق تحسين ملحوظ في كل من الاستقرار الضوئي والاستقرار الحراري. تقدم هذه الدراسة فكرة جديدة لتحقيق أجهزة ليزر بيروفسكايت مستقرة وفعالة من خلال هندسة المذيبات.

FAPbI₃; ثنائي ميثيل اليوريا; الإشعاع التلقائي المضخم; الاستقرار