تلف الإشعاع هو مشكلة مشتركة وأساسية تواجه مجالات التصوير الطبي، المنشآت العلمية الكبرى، وصناعة الفضاء. دراسة ثبات المواد تحت إشعاع عالي الطاقة وآليات التلف هي خطوة لا غنى عنها نحو التطبيقات العملية. تتمتع مواد أشباه الموصلات البيروفيسكايتية الجديدة بآفاق تطبيقية واسعة في مجال اكتشاف الإشعاع عالي الطاقة، إلا أن ثباتها تحت الإشعاع العالي لا يزال موضع جدل، ولا تزال آليات التلف غير واضحة. تستعرض هذه الدراسة آليات تلف البيروفيسكايت في بيئة إشعاع عالي والط عوامل الرئيسية المؤثرة على ثبات الإشعاع، وتقترح استراتيجيات محتملة لتعزيز مقاومة هذه المواد للإشعاع، بهدف الحصول على علاقة بنية-خاصية بين هيكل البيروفيسكايت وثباته تحت الإشعاع، لتوفير مرجع فعال لتطوير أجهزة اكتشاف الإشعاع القائمة على البيروفيسكايت.

بيروفيسكايت;ثبات الإشعاع;آليات التلف