تغليف سطح Al2O3 يعزز أداء الانبعاث الضوئي والثبات في الرطوبة والحرارة لمسحوق K2SiF6∶Mn4+
摘要
تم دراسة تطبيق تقنية ترسيب الطبقات الذرية (ALD) على مسحوق K2SiF6∶Mn4+ (KSFM) الأحمر المستخدم في مصابيح LED البيضاء، من حيث تغليف الفسفور وتعديل السطح، وكذلك تأثير ذلك على خصائص الهيكل، وأداء الإضاءة، والثبات في بيئة الرطوبة والحرارة. أظهرت النتائج أن تقنية ALD باستخدام تري ميثيل الألومنيوم كمقدمة، والأوزون كعامل مؤكسد، يمكن أن تخلق طبقة تغليف من أكسيد الألومنيوم على سطح KSFM. أظهرت تحليلات حيود الأشعة السينية وتحليل المورفولوجيا السطحية أن عملية ALD لا تؤثر على الطور البلوري وخصائص المورفولوجيا لمسحوق الفسفور KSFM. أظهرت تحليلات طيف الانبعاث الضوئي أن تأثير السلبية لأكسيد الألومنيوم يعزز شدة انبعاث الفسفور KSFM، دون تغيير طول موجة الانبعاث. مقارنةً بمسحوق KSFM غير المغلف، يمكن للطبقة المغلفة تحسين ثبات مسحوق KSFM في بيئة الرطوبة والحرارة بشكل ملحوظ، حيث يحتفظ العينة بعد تغليف ALD بنسبة شدة انبعاث نسبية تبلغ 84٪ من القيمة الأصلية بعد 24 ساعة من التعرض لبيئة 85٪ رطوبة و85 درجة مئوية.
关键词
K2SiF6∶Mn4+; مسحوق أحمر; تعديل السطح; ترسيب الطبقات الذرية; ثبات الرطوبة والحرارة
以上内容由讯飞翻译自动生成，翻译内容仅供参考。对于因使用本网站翻译内容产生的相关后果，本网站不承担任何商业和法律责任。
The above content is generated by Large Model Translation. The translated content is for reference only. We do not assume any commercial or legal responsibilty for any consequences arising from the use of our website