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NH3 等离子体后处理Co掺杂ZnO的薄膜结构及磁学性能
器件制备及器件物理 | 更新时间:2020-08-12
    • NH3 等离子体后处理Co掺杂ZnO的薄膜结构及磁学性能

    • Structural and Ferromagnetism Properties of NH3 Plasma Post-treated Co-doped ZnO Thin Film

    • 发光学报   2011年32卷第4期 页码:383-386
    • DOI:10.3788/fgxb20113204.0383    

      中图分类号: O472.3
    • 收稿日期:2010-06-10

      修回日期:2010-12-10

      纸质出版日期:2011

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  • 曹萍, 白越, 赵东旭, 申德振. NH<sub>3</sub> 等离子体后处理Co掺杂ZnO的薄膜结构及磁学性能[J]. 发光学报, 2011,32(4): 383-386 DOI: 10.3788/fgxb20113204.0383.

    CAO Ping, BAI Yue, ZHAO Dong-xu, SHEN De-zhen. Structural and Ferromagnetism Properties of NH<sub>3</sub> Plasma Post-treated Co-doped ZnO Thin Film[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2011,32(4): 383-386 DOI: 10.3788/fgxb20113204.0383.

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