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极性、半极性和非极性InN薄膜的MOCVD外延生长与表征
研究快报 | 更新时间：2024-03-04
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    • 极性、半极性和非极性InN薄膜的MOCVD外延生长与表征

      增强出版

    • MOCVD Epitaxial Growth and Characterization of Polar, Semipolar and Nonpolar InN Thin Films

    • 发光学报   2024年45卷第2期 页码：204-210

    • DOI：10.37188/CJL.20230303    

      中图分类号： O482.31

    • 纸质出版日期：2024-02-05，

      收稿日期：2023-11-29，

      修回日期：2023-12-17，

    移动端阅览

  • 赵见国, 殷瑞, 徐儒, 等. 极性、半极性和非极性InN薄膜的MOCVD外延生长与表征[J]. 发光学报, 2024,45(2):204-210. DOI： 10.37188/CJL.20230303.

    ZHAO JIANGUO, YIN RUI, XU RU, et al. MOCVD Epitaxial Growth and Characterization of Polar, Semipolar and Nonpolar InN Thin Films. [J]. Chinese journal of luminescence, 2024, 45(2): 204-210. DOI： 10.37188/CJL.20230303.

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相关作者

常建华
刘斌
赵见国
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秦瑞飞
金崇君
王鹏程
徐华伟

相关机构

中山大学物理科学与工程技术学院
发光学及应用国家重点实验室 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
中国科学院 研究生院
中国科学院 激发态重点实验室 长春光学精密机械与物理研究所
中国科学院 研究生院
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