您当前的位置:
首页 >
文章列表页 >
PrF3阳极缓冲层对OLED器件性能的影响
器件制备及器件物理 | 更新时间:2020-08-12
    • PrF3阳极缓冲层对OLED器件性能的影响

    • Effect of PrF3 Anode Buffer Layer on The Performance of OLED

    • 发光学报   2011年32卷第9期 页码:929-933
    • 中图分类号: TN383.1
    • 收稿日期:2011-03-29

      修回日期:2011-05-24

      网络出版日期:2011-09-22

      纸质出版日期:2011-09-22

    移动端阅览

  • 廖亚琴, 陈红, 刘星元. PrF<sub>3</sub>阳极缓冲层对OLED器件性能的影响[J]. 发光学报, 2011,32(9): 929-933 DOI:

    LIAO Ya-qin, CHEN-hong, LIU Xing-yuan. Effect of PrF<sub>3</sub> Anode Buffer Layer on The Performance of OLED[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2011,32(9): 929-933 DOI:

  •  
  •  

0

浏览量

123

下载量

4

CSCD

文章被引用时,请邮件提醒。
提交
工具集
下载
参考文献导出
分享
收藏
添加至我的专辑

相关文章

IPTO薄膜制备及其在有机光电器件中的应用
以ILTO为阳极的高效有机电致发光器件
基于二萘并[2,3-B∶2′,3′-D]呋喃基团的高效窄发射蓝光OLED器件
氯化铯甲醇溶液对有机聚合物太阳能电池的影响
磷光吡嗪铱(Ⅲ)配合物的合成及发光性质

相关作者

田苗苗
贺小光
祁金刚
王宁
田苗苗
李春杰
贺小光
于立军

相关机构

新加坡南洋理工大学 电气科学与电子工程学院
长春师范大学 物理学院
长春师范学院 物理学院
中国科学院长春应用化学研究所高分子物理与化学国家重点实验室
发光学与应用国家重点实验室 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
0