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采用MBE生长1.6~2.3 μm InGaAsSb/ AlGaAsSb多量子阱
器件制备及器件物理 | 更新时间:2020-08-12
    • 采用MBE生长1.6~2.3 μm InGaAsSb/ AlGaAsSb多量子阱

    • Growth of 1.6~2.3 μm InGaAsSb/ AlGaAsSb Multi-quantum-well by Molecular Beam Epitaxy

    • 发光学报   2011年32卷第3期 页码:282-284
    • 中图分类号: O482.31
    • 收稿日期:2010-06-28

      修回日期:2010-09-21

      网络出版日期:2011-03-22

      纸质出版日期:2011-03-22

    移动端阅览

  • 尤明慧, 高欣, 李占国, 刘国军, 李林, 李梅, 王晓华, 薄报学. 采用MBE生长1.6~2.3 μm InGaAsSb/ AlGaAsSb多量子阱[J]. 发光学报, 2011,32(3): 282-284 DOI:

    YOU Ming-hui, GAO Xin, LI Zhan-guo, LIU Guo-jun, LI Lin, LI Mei, WANG Xiao-hua, BO Bao-xue. Growth of 1.6~2.3 μm InGaAsSb/ AlGaAsSb Multi-quantum-well by Molecular Beam Epitaxy[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2011,32(3): 282-284 DOI:

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