您当前的位置:
首页 >
文章列表页 >
射频磁控溅射法制备的Eu掺杂ZnO 薄膜的结构及其发光性质
材料合成及性能研究 | 更新时间:2020-08-12
    • 射频磁控溅射法制备的Eu掺杂ZnO 薄膜的结构及其发光性质

    • Structural and Photoluminescence Properties of Eu-doped ZnO Thin Films Grown by RF Magnetron Sputtering

    • 发光学报   2011年32卷第10期 页码:1004-1008
    • 中图分类号: O484.1;O482.31
    • 收稿日期:2011-04-06

      修回日期:2011-06-30

      网络出版日期:2011-10-22

      纸质出版日期:2011-10-22

    移动端阅览

  • 高振杰, 杨元政, 谢致薇, 王彦利. 射频磁控溅射法制备的Eu掺杂ZnO 薄膜的结构及其发光性质[J]. 发光学报, 2011,32(10): 1004-1008 DOI:

    GAO Zhen-jie, YANG Yuan-zheng, XIE Zhi-wei, WANG Yan-li. Structural and Photoluminescence Properties of Eu-doped ZnO Thin Films Grown by RF Magnetron Sputtering[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2011,32(10): 1004-1008 DOI:

  •  
  •  

0

浏览量

170

下载量

2

CSCD

文章被引用时,请邮件提醒。
提交
工具集
下载
参考文献导出
分享
收藏
添加至我的专辑

相关文章

直流磁控溅射生长(002)择优取向AlN薄膜及其光致发光
射频磁控溅射法制备ZnO薄膜的发光特性
Sr3AlO4F∶Eu3+,Dy3+,Na+发光材料性能
光致发光气凝胶研究进展
Zn2+掺杂MgGa2O4∶Ni2+近红外二区发光材料制备、表征及其成像应用研究

相关作者

吕伟
刘俊
赵鹏宇
李健亮
李思达
沈龙海
王卿璞
张德恒

相关机构

沈阳理工大学 理学院
山东大学, 物理与微电子学院
长春理工大学 重庆研究院
长春理工大学 材料科学与工程学院
南京工业大学 柔性电子(未来技术)学院&先进材料研究院
0