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柔性ITO衬底电化学沉积制备Cu/Cu2O薄膜
研究论文 | 更新时间:2020-08-11
    • 柔性ITO衬底电化学沉积制备Cu/Cu2O薄膜

    • Preparation of Cu/Cu2O Thin Films on Flexible ITO Substrates via Electrochemical Deposition

    • 发光学报   2007年28卷第5期 页码:798-801
    • 中图分类号: O484.1
    • 收稿日期:2007-01-10

      修回日期:2007-03-16

      纸质出版日期:2007-09-20

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  • 董林, 马莹, 李豪, 贾晓林. 柔性ITO衬底电化学沉积制备Cu/Cu<sub>2</sub>O薄膜[J]. 发光学报, 2007,28(5): 798-801 DOI:

    DONG Lin, MA Ying, LI Hao, JIA Xiao-lin. Preparation of Cu/Cu<SUB>2</SUB>O Thin Films on Flexible ITO Substrates via Electrochemical Deposition[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2007,28(5): 798-801 DOI:

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