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氧和氩等离子辅助电子束蒸发制备高质量ZnO薄膜
研究论文 | 更新时间:2020-08-11
    • 氧和氩等离子辅助电子束蒸发制备高质量ZnO薄膜

    • High Quality ZnO Thin Films Prepared by O2 and Ar Plasma-assisted E-beam Evaporation

    • 发光学报   2003年24卷第3期 页码:284-288
    • 中图分类号: O472.3
    • 收稿日期:2002-07-30

      修回日期:2003-11-20

      纸质出版日期:2003-05-20

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  • 汤庆鑫, 路丽霞, 齐秀英, 钟殿强, 初国强, 刘益春. 氧和氩等离子辅助电子束蒸发制备高质量ZnO薄膜[J]. 发光学报, 2003,24(3): 284-288 DOI:

    TANG Qing-xin, LU Li-xia, QI Xiu-ying, ZHONG Dian-qiang, CHU Guo-qiang, LIU Yi-chun. High Quality ZnO Thin Films Prepared by O<sub>2</sub> and Ar Plasma-assisted E-beam Evaporation[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2003,24(3): 284-288 DOI:

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吉林大学 电子科学与工程学院 集成光电子学国家重点联合实验室
哈尔滨师范大学, 物理系
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 激发态物理重点实验室
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吉林大学 电子科学与工程学院, 集成光电子学国家重点联合实验室
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