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可实现真空和气氛退火的高精度温控退火炉的研制
研究论文 | 更新时间:2020-08-11
    • 可实现真空和气氛退火的高精度温控退火炉的研制

    • Preparation of a Temperature-controlled Annealing Furnace withHigh Precision and the Debugging of the Temperature Control Program

    • 发光学报   2002年23卷第6期 页码:619-622
    • 中图分类号: TN205
    • 收稿日期:2002-03-15

      修回日期:2002-08-23

      纸质出版日期:2002-11-20

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  • 梁玲, 顾牡, 许伟群, 陈玲燕. 可实现真空和气氛退火的高精度温控退火炉的研制[J]. 发光学报, 2002,23(6): 619-622 DOI:

    LIANG Ling, GU Mu, XU Wei-qun, CHEN Ling-yan. Preparation of a Temperature-controlled Annealing Furnace withHigh Precision and the Debugging of the Temperature Control Program[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2002,23(6): 619-622 DOI:

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相关机构

华南理工大学 材料科学与工程学院, 高分子光电材料与器件研究所, 发光材料与器件国家重点实验室
吉林省产品质量监督检验院
长春理工大学 光电工程学院
长春工业大学 化学工程学院
电子科技大学中山学院 电子薄膜与集成器件国家重点实验室中山分实验室
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