您当前的位置:
首页 >
文章列表页 >
脉冲激光沉积法制备的纳米硅薄膜的结构与光学性质
研究论文 | 更新时间:2020-08-11
    • 脉冲激光沉积法制备的纳米硅薄膜的结构与光学性质

    • Structural and Optical Characteristics of Nano-crystalline Silicon Films Fabricated by Pulsed Laser Deposition

    • 发光学报   2006年27卷第6期 页码:981-986
    • 中图分类号: O482.31
    • 收稿日期:2006-03-04

      修回日期:2006-04-26

      纸质出版日期:2006-11-20

    移动端阅览

  • 石明吉, 李清山, 孔祥贵. 脉冲激光沉积法制备的纳米硅薄膜的结构与光学性质[J]. 发光学报, 2006,27(6): 981-986 DOI:

    SHI Ming-ji, LI Qing-shan, KONG Xiang-gui. Structural and Optical Characteristics of Nano-crystalline Silicon Films Fabricated by Pulsed Laser Deposition[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2006,27(6): 981-986 DOI:

  •  
  •  

0

浏览量

118

下载量

0

CSCD

文章被引用时,请邮件提醒。
提交
工具集
下载
参考文献导出
分享
收藏
添加至我的专辑

相关文章

ZnO薄膜近带边紫外发光的研究
脉冲激光沉积(PLD)法生长高质量ZnO薄膜及其发光性能
p型MgZnOS透明导电薄膜及其p-n结型自驱动紫外光电探测器研究
Sr3AlO4F∶Eu3+,Dy3+,Na+发光材料性能
光致发光气凝胶研究进展

相关作者

黎小平
曹培江
宿世臣
贾芳
柳文军
朱德亮
马晓翠
吕有明

相关机构

深圳大学材料学院 深圳市特种功能材料重点实验室
华南师范大学 光电子材料与技术研究所
大连理工大学物理系, 三束材料改性国家重点实验室
中国科学院上海硅酸盐研究所, 高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室
吉林大学电子科学与工程学院, 集成光电子国家重点实验室, 吉林, 长春, 130023
0