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低真空下紫外激光烧蚀铜诱导发光的机理
研究论文 | 更新时间:2020-08-11
    • 低真空下紫外激光烧蚀铜诱导发光的机理

    • The Emission Studies on Ultraviolet Laser Ablation of Copper in Low Pressure

    • 发光学报   2006年27卷第6期 页码:1021-1025
    • 中图分类号: O532.25;TN249
    • 收稿日期:2006-03-07

      修回日期:2006-05-11

      纸质出版日期:2006-11-20

    移动端阅览

  • 黄庆举. 低真空下紫外激光烧蚀铜诱导发光的机理[J]. 发光学报, 2006,27(6): 1021-1025 DOI:

    HUANG Qing-ju. The Emission Studies on Ultraviolet Laser Ablation of Copper in Low Pressure[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2006,27(6): 1021-1025 DOI:

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脉冲功率激光技术国家重点实验室
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