您当前的位置:
首页 >
文章列表页 >
退火对常压MOCVD法生长的高结晶性能ZnO薄膜发光特性的影响
研究论文 | 更新时间:2020-08-11
    • 退火对常压MOCVD法生长的高结晶性能ZnO薄膜发光特性的影响

    • Influence of Annealing on Luminescent Properties of High Crystalline ZnO Thin Films Grown by Atmospheric Pressure MOCVD

    • 发光学报   2005年26卷第5期 页码:611-616
    • 中图分类号: O472.3;O4821.31
    • 收稿日期:2004-08-23

      修回日期:2004-12-22

      纸质出版日期:2005-09-20

    移动端阅览

  • 陈玉凤, 温战华, 王立, 戴江南, 方文卿, 江风益. 退火对常压MOCVD法生长的高结晶性能ZnO薄膜发光特性的影响[J]. 发光学报, 2005,26(5): 611-616 DOI:

    CHEN Yu-feng, WEN Zhan-hua, WANG Li, DAI Jiang-nan, FANG Wenqing, JIANG Feng-yi. Influence of Annealing on Luminescent Properties of High Crystalline ZnO Thin Films Grown by Atmospheric Pressure MOCVD[J]. Chinese Journal of Luminescence, 2005,26(5): 611-616 DOI:

  •  
  •  

0

浏览量

58

下载量

0

CSCD

文章被引用时,请邮件提醒。
提交
工具集
下载
参考文献导出
分享
收藏
添加至我的专辑

相关文章

薄膜热处理对ZnO薄膜晶体管性能的提高
气相输运法制备ZnO薄膜
退火对ZnO薄膜质量的影响
高增益ZnO肖特基紫外光电探测器光响应特性
利用离子激发发光研究低温条件下ZnO发光行为

相关作者

张浩
张良
李俊
蒋雪茵
张志林
张建华
林秀珠
李 静

相关机构

上海大学 机电工程与自动化学院
上海大学 新型显示技术与应用集成教育部重点实验室
上海大学 材料学院
厦门大学物理系
厦门大学 萨本栋微纳米技术研究中心
0