射频磁控溅射CaS：TmF3薄膜的电致发光及其激发过程的研究

孙甲明; 钟国柱; 范希武; 郑陈玮

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射频磁控溅射CaS：TmF₃薄膜的电致发光及其激发过程的研究

稀土发光材料 | 更新时间：2020-08-11

- 射频磁控溅射CaS：TmF₃薄膜的电致发光及其激发过程的研究
- STUDY OF THE ELECTROLUMINESCENCE AND EXCITATION PROCESS OF CaS：TmF₃ FILM PREPARED BY RADIO FREQUENCY MAGNETRON SPUTTERING
- 发光学报 1998年19卷第1期页码：31-35
- 作者机构：
  
  1. 中国科学院长春物理研究所长春,130021
  2. 中国科学院激发态物理开放研究实验室长春,130021
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  中国国家“863”高技术项目和美国惠普公司合作项目
- DOI：
  中图分类号：
- 收稿日期：1997-03-24，
  
  纸质出版日期：1998-02-28
- 稿件说明：
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孙甲明, 钟国柱, 范希武, 郑陈玮. 射频磁控溅射CaS：TmF3薄膜的电致发光及其激发过程的研究[J]. 发光学报, 1998,19(1): 31-35

Sun Jiaming, Zhong Guozhu, Fan Xiwu, Zheng Chenwei. STUDY OF THE ELECTROLUMINESCENCE AND EXCITATION PROCESS OF CaS：TmF3 FILM PREPARED BY RADIO FREQUENCY MAGNETRON SPUTTERING[J]. Chinese Journal of Luminescence, 1998,19(1): 31-35
孙甲明, 钟国柱, 范希武, 郑陈玮. 射频磁控溅射CaS：TmF3薄膜的电致发光及其激发过程的研究[J]. 发光学报, 1998,19(1): 31-35 DOI：

Sun Jiaming, Zhong Guozhu, Fan Xiwu, Zheng Chenwei. STUDY OF THE ELECTROLUMINESCENCE AND EXCITATION PROCESS OF CaS：TmF3 FILM PREPARED BY RADIO FREQUENCY MAGNETRON SPUTTERING[J]. Chinese Journal of Luminescence, 1998,19(1): 31-35 DOI：

摘要

首次报道了射频磁控溅射CaS:TmF

薄膜的蓝色交流电致发光.电致发光谱包含位于480、653、703和803nm的四组发光峰

分别对应着三价Tm

离子的

、

和

的电子跃迁发光.通过对CaS:TmF

粉末的激发光谱的研究

我们发现由于蓝峰和红外峰的激发峰的能量不同导致不同能量的光子激发下的光致发光光谱的红外/蓝峰的强度比有较大的差别.通过对电致发光光谱中红外/蓝峰强度比与不同波长的激发光激发下CaS:TmF

粉末的光致发光光谱的红外/蓝峰强度比的对比研究

我们判断主要激发过程为从基质到Tm

中心的能量传递.

Abstract

Blue electroluminescence was reported for the first time from CaS:TmF

thin film prepared by radio frequency magnetron sputtering method.Brightness-applied voltage characteristic was investigated in alternating current thin-film electroluminescent device.The integrated intensity ratio of infrared to blue peak of electroluminescent spectra was compared with that of the photoluminescent spectra from CaS:TmF

powder excited by different photon energy.The main excitation processes in CaS:TmF

electroluminescent thin film was considered to be energy transfer from the host to Tm

centers.

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