衬底温度对CaS：TbF3薄膜电致发光亮度的影响

孙甲明; 钟国柱; 范希武; 郑陈玮

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衬底温度对CaS：TbF₃薄膜电致发光亮度的影响

稀土发光材料 | 更新时间：2020-08-11

- 衬底温度对CaS：TbF₃薄膜电致发光亮度的影响
- EFFECT OF THE SUBSTRATE TEMPERATURE ON BRIGHTNESS OF CaS：TbF₃ ELECTROLUMINESCENT THIN FILMS
- 发光学报 1998年19卷第1期页码：36-40
- 作者机构：
  
  1. 中国科学院长春物理研究所长春,130021
  2. 中国科学院激发态物理开放研究实验室长春,130021
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  中国国家“863”高技术和美国惠普公司合作项目
- DOI：
  中图分类号：
- 收稿：1997-03-31，
  
  纸质出版：1998-02-28
- 稿件说明：
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孙甲明, 钟国柱, 范希武, 郑陈玮. 衬底温度对CaS：TbF3薄膜电致发光亮度的影响[J]. 发光学报, 1998,19(1): 36-40

Sun Jiaming, Zhong Guozhu, Fan Xiwu, Zheng Chenwei. EFFECT OF THE SUBSTRATE TEMPERATURE ON BRIGHTNESS OF CaS：TbF3 ELECTROLUMINESCENT THIN FILMS[J]. Chinese Journal of Luminescence, 1998,19(1): 36-40
孙甲明, 钟国柱, 范希武, 郑陈玮. 衬底温度对CaS：TbF3薄膜电致发光亮度的影响[J]. 发光学报, 1998,19(1): 36-40 DOI：

Sun Jiaming, Zhong Guozhu, Fan Xiwu, Zheng Chenwei. EFFECT OF THE SUBSTRATE TEMPERATURE ON BRIGHTNESS OF CaS：TbF3 ELECTROLUMINESCENT THIN FILMS[J]. Chinese Journal of Luminescence, 1998,19(1): 36-40 DOI：

摘要

利用X射线衍射和扫描电子显微镜对不同衬底温度下电子束蒸发的CaS:TbF

电致发光薄膜的结晶性和表面形貌进行了研究.通过对薄膜的透射率和漫反射率的测量研究了薄膜的致密性.X射线衍射表明衬底温度在220到580℃范围之间

电子束蒸发的CaS:TbF

电致发光薄膜为多晶立方晶相.随着衬底温度的提高

CaS:TbF

薄膜的表面形貌发生显著的变化

薄膜的致密性增加

从而增加了电致发光亮度.

Abstract

The crystallinity and morphology of crystalline grains were studied on CaS:TbF

electroluminescent thin films prepared by electron beam evaporation under different substrate temperatures from 220 to 580℃.The brightness of the electroluminescence strongly increased with increasing the substrate temperatures.X-ray diffraction analysis indicated that the CaS:TbF

films were polycrystalline with cubic phase.The surface morphology of the films

the decrease of the diffuse reflectance and the increase of transmittance indicated that the CaS:TbF

films became denser with increasing the substrate temperatures.These changes reduce scattering to hot electrons and finally caused a strong increase of the electroluminescent brightness by increasing hot electrons energy in CaS:TbF

films.

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