涡轮MOCVD技术中有机源高速均匀混合

廖常俊; 刘颂豪; 陈俊芳; 刘剑; 赵寿南; 郑学仁

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涡轮MOCVD技术中有机源高速均匀混合

论文 | 更新时间：2020-08-11

- 涡轮MOCVD技术中有机源高速均匀混合
- HIGH SPEED MIXING OF THE PRECURSOR MATERIALS IN TURBODISK MOCVD SYSTEM
- 发光学报 1997年18卷第4期页码：366-368
- 作者机构：
  
  1. 华南理工大学应用物理系, 广州 510641
  2. 华南师范大学量子电子学研究所, 广州 510631
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  广东省自然科学基金
- DOI：
  中图分类号： O475
- 纸质出版日期：1997-11-30
- 稿件说明：
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廖常俊, 刘颂豪, 陈俊芳, 刘剑, 赵寿南, 郑学仁. 涡轮MOCVD技术中有机源高速均匀混合[J]. 发光学报, 1997,18(4): 366-368

Liao Changjun, Liu Songhao, Chen Junfang, Liu Jian, Zhao Shounan, Zheng Xueren. HIGH SPEED MIXING OF THE PRECURSOR MATERIALS IN TURBODISK MOCVD SYSTEM[J]. Chinese Journal of Luminescence, 1997,18(4): 366-368
廖常俊, 刘颂豪, 陈俊芳, 刘剑, 赵寿南, 郑学仁. 涡轮MOCVD技术中有机源高速均匀混合[J]. 发光学报, 1997,18(4): 366-368 DOI：

Liao Changjun, Liu Songhao, Chen Junfang, Liu Jian, Zhao Shounan, Zheng Xueren. HIGH SPEED MIXING OF THE PRECURSOR MATERIALS IN TURBODISK MOCVD SYSTEM[J]. Chinese Journal of Luminescence, 1997,18(4): 366-368 DOI：

摘要

在用于发光器件制造的多层MOCVD外延技术中

用高速氢气流冲洗管路、混合有机源获得晶格匹配好

而且界面过度层薄的突变异质结界面.

Abstract

Interface structure of the epitaxial layers were improved by high speed hydrogen push flow to accelerate the mixing of the precursor materials and by adjusting the partial injected pressure to the tube connected to the reaction chamber.A typical pressure layout is given.

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涡轮MOCVD技术中有机源高速均匀混合

HIGH SPEED MIXING OF THE PRECURSOR MATERIALS IN TURBODISK MOCVD SYSTEM

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