利用相位掩膜技术制备光纤光栅的紫外曝光系统

李燕; 梁国栋; 徐迈; 王庆亚; 孙英志; 张建; 张玉书

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利用相位掩膜技术制备光纤光栅的紫外曝光系统

研究快报 | 更新时间：2020-08-11

- 利用相位掩膜技术制备光纤光栅的紫外曝光系统
- UV EXPOSURE EQUIPMENT OF FABRICATING FIBER GRATING BY A PHASE MASK
- 发光学报 1996年17卷第3期页码：266-268
- 作者机构：
  
  1. 中国科学院激发态物理开放实验室长春,130021
  2. 中国科学院长春物理研究所长春,130021
  3. 集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学分区长春,130021
- 作者简介：
- 基金信息：
  
  集成光电子学国家重点联合实验室资助
- DOI：
  中图分类号：
- 收稿日期：1996-02-29，
  
  纸质出版日期：1996-08-30
- 稿件说明：
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李燕, 梁国栋, 徐迈, 王庆亚, 孙英志, 张建, 张玉书. 利用相位掩膜技术制备光纤光栅的紫外曝光系统[J]. 发光学报, 1996,17(3): 266-268

Li Yan, Liang Guodong, Xu Mai, Wang Qingya, Sun Yingzhi, Zhang Jian, Zhang Yushu. UV EXPOSURE EQUIPMENT OF FABRICATING FIBER GRATING BY A PHASE MASK[J]. Chinese Journal of Luminescence, 1996,17(3): 266-268
李燕, 梁国栋, 徐迈, 王庆亚, 孙英志, 张建, 张玉书. 利用相位掩膜技术制备光纤光栅的紫外曝光系统[J]. 发光学报, 1996,17(3): 266-268 DOI：

Li Yan, Liang Guodong, Xu Mai, Wang Qingya, Sun Yingzhi, Zhang Jian, Zhang Yushu. UV EXPOSURE EQUIPMENT OF FABRICATING FIBER GRATING BY A PHASE MASK[J]. Chinese Journal of Luminescence, 1996,17(3): 266-268 DOI：

摘要

光纤布拉格光栅在光纤系统中起着反射镜的作用

它在光纤通信和光纤传感技术中应用十分广泛

[1]

.特别是近年发展起来的利用相位掩膜技术

对掺杂光纤芯径的紫外诱导轴向折射率变化来制备光栅

[2]

方法简单

适于大规模生产

更具有强大的生命力.伴随该技术的成熟与开发

已促进全光纤技术范围内的科学进步.

Abstract

It is reported in this paper that Bragg gratings are successfully fabricated on national 202 positive photoresist by excimer laser of 248 urn wavelength through a phase mask.The effect of this UV exposure equipment suitable for fabrication of fiber Bragg grating reflector is demonstrated perfectly.

关键词

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