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掺杂8-羟基喹啉铝薄膜的电致发光特性研究
论文 | 更新时间:2020-08-11
    • 掺杂8-羟基喹啉铝薄膜的电致发光特性研究

    • ELECTROLUMINESCENCE STUDY OFDOPED Alq3 THIN FILMS

    • 发光学报   1994年15卷第2期 页码:136-140
    • 中图分类号: TN383.1
    • 收稿日期:1993-11-24

      纸质出版日期:1994-05-30

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  • 郜军, 冯秀岚, 华玉林. 掺杂8-羟基喹啉铝薄膜的电致发光特性研究[J]. 发光学报, 1994,15(2): 136-140 DOI:

    Gao Jun, Feng Xiulan, Hua Yulin. ELECTROLUMINESCENCE STUDY OFDOPED Alq3 THIN FILMS[J]. Chinese Journal of Luminescence, 1994,15(2): 136-140 DOI:

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相关作者

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相关机构

中国工程物理研究院 化工材料研究所
华侨大学材料科学与工程学院 发光材料与信息显示研究院
吉林大学电子科学与工程学院 集成光电子学国家重点实验室
美国佐治亚南方大学 物理系, 佐治亚 斯泰茨伯勒
重庆理工大学 理学院
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