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有源区掺杂浓度对GaAs/GaAlAsDH-ELED器件性能的影响
其它 | 更新时间:2020-08-11
    • 有源区掺杂浓度对GaAs/GaAlAsDH-ELED器件性能的影响

    • EFFECT OF DOPING CONCENTRATION IN THE ACTIVE LAYER ON PERFORMANCE CHARACTERISTICS OF DH-ELED

    • 发光学报   1987年8卷第4期 页码:338-346
    • 收稿日期:1986-11-26

      纸质出版日期:1987-11-30

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  • 吴陈周, 潘慧珍, 逄永秀. 有源区掺杂浓度对GaAs/GaAlAsDH-ELED器件性能的影响[J]. 发光学报, 1987,8(4): 338-346 DOI:

    Wu Chenzhou, Pan Huizhen, Pang Yongxiu. EFFECT OF DOPING CONCENTRATION IN THE ACTIVE LAYER ON PERFORMANCE CHARACTERISTICS OF DH-ELED[J]. Chinese Journal of Luminescence, 1987,8(4): 338-346 DOI:

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