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厦门大学物理系
收稿:1981-12-20,
纸质出版:1981-03-02
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黄美纯. n-Ga<sub>1-x</sub>Al<sub>x</sub>As的能带结构和Hall迁移率[J]. 发光学报, 1981,2(1): 1-10
. [J]. Chinese Journal of Luminescence, 1981,2(1): 1-10
黄美纯. n-Ga<sub>1-x</sub>Al<sub>x</sub>As的能带结构和Hall迁移率[J]. 发光学报, 1981,2(1): 1-10 DOI:
. [J]. Chinese Journal of Luminescence, 1981,2(1): 1-10 DOI:
本文提出一种分析三元半导体合金霍尔迁移率随组分变化的半经验方法.详细描述了GaAlAs电子迁移率变化与能带结构的关系.在导带Γ-L-X三能谷模型的基础上
引进能谷迁移率内插法
给出了霍尔迁移率随组分变化的理论公式
对GaAlAs进行具体计算发现同现有的实验结果符合得很好.理论曲线与实验的拟合采用L带电子迁移率作为可调参数.研究表明
至今了解很少的L带迁移率在1200~600cm
2
/v·s之间变化
同时确认
在0.15
<
x
0.6的Al组分区
L带对霍尔迁移率起着重要作用
它使迁移率由Γ带之值过渡到X带之值的速率变慢.
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