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美国贝尔实验室
纸质出版:1980-03-30
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波特. 激光退火机理[J]. 发光学报, 1980,1(2): 62-63
. [J]. Chinese Journal of Luminescence, 1980,1(2): 62-63
波特. 激光退火机理[J]. 发光学报, 1980,1(2): 62-63 DOI:
. [J]. Chinese Journal of Luminescence, 1980,1(2): 62-63 DOI:
自从苏联人开始研究激光退火以来
进行了许多工作去研究其现象
考查其用于半导体加工的潜力。此文中评述了激光退火用于处理离子注入产生的损伤
重长沉积的Si层
以及金属膜和半导体产生反应的机理。目前有两种不同的方法。
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